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Theses 2026/03

Master

菊田 直人
ホスホン酸単分子膜を形成した酸化ニッケルの表面物性に関する研究

佐藤 仁哉
無反射多層基板を用いた有機単分子膜のパターニング評価と金属イオンの吸着特性に関する研究

瀧 基紀
反応性スパッタリングで形成したpチャネルSnO薄膜トランジスタの作製と評価

二本木 崇桐
スパッタリング成膜による積層InGaZnOトランジスタの作製及び評価

前田 拓海
薄膜デバイス応用に向けたInGaZnO薄膜へのホスホン酸単分子膜の形成

安井 幹
無反射多層基板を用いたアルミニウム薄膜の表面酸化プロセスの光学的評価

Bachelor

天福 佳志
スパッタリングにより成膜したITO薄膜の電気特性評価

梅田 瑞生
Geターゲットからスパッタリングにより作製したGeOx薄膜の基礎特性評価

内田 直希
新規有機結晶を用いた二次元材料乾式転写技術の開発

柴田 祐作
アルキル鎖長が異なる有機半導体を混合して膜厚制御された二分子膜の評価

大東 晴太
高ひずみ許容基板における二次元材料のひずみ応答特性の研究

寺岡 滉一郎
パッシベーション膜を有するInGaZnO薄膜トランジスタの作製と評価

藤本 晋太朗
高周波スパッタリングによる酸化インジウムスズ透明導電膜の作製と特性評価

佐藤 慎之助
Snターゲットからスパッタリング製膜したSnO薄膜P型トランジスタの特性評価

遠藤 匠真
液晶性を有する有機半導体を加熱して形成される単層膜の挙動

島 憲大
InGaZnO量子井戸構造の分光エリプソメトリー評価

三浦 優太
電極の形状と濡れ性で液滴挙動を制御する有機薄膜形成技術

小笠原 壮輝
銀電極の仕事関数向上のための表面処理の評価